-添毅 T 系列电弧离子镀膜机

一、技术原理

在真空状态下通过弧光放电产生高密度电子流；在磁场和电场的作用下，电子流的输运过程受到精确控制，与反应气体碰撞产生高密度离子流；离子流或者电子流在电磁场的控制下以不同的能量轰击样品表面，可以实现刻蚀清洗样片、活化表面、离子渗氮、物理气相沉积等。整个制备过程是典型的物理过程，不使用任何化学试剂，没有任何有毒、有害产物的排放。

二、设备基本构成

真空系统+电源系统＋核心部件＋控制系统

三、设备技术参数

1. 总技术参数：

2.技术创新点

(1) 等离子体均匀性显著提升，是工具和科研领域的理想涂层系统；

(2) 使用 160 磁控弧源，改进了水冷结构，可以选配过滤弧结构，显著降低大颗粒数量和尺寸，提高薄膜的质量；

(3) 提供等离子体优化器的硬件平台，提供 CrN 基、TiN 基、AlO 基等多种涂层工艺支持；

(4) 有高、中、低设备平台，可供选择。

3.先进性

(1) 磁场、电场结构可定制 ；

(2) 改进水冷结构和传热效率；

(3) 改进连接结构和可靠性；

(4) 能够为核工业、航空航天和医疗器械等行业制备定制涂层。

四、真空镀膜实物图